摘要
研究了Ｎｂ在空气中（温度低于５００℃）的氧化动力学规律。用离子注入惰性气体（Ｘｅ离子）作为标记、用卢瑟福背散射（ＲＢＳ）分析研究了Ｎｂ氧化膜的成膜区域及离子迁移机制。利用椭偏仪测量了氧化膜厚度，用Ｘ射线分析、Ｘ射线电子能谱（ＸＰＳ）分析研究了氧化膜的成分及价态，最后探讨了温度对标记原子的影响。
The oxidation behavior of Nb has been investigated in hot air. The law of the niobium oxide film's growth is studied by means of Xe ion implantation and Rutherford backscattering (RBS) analysis. The microstructure is analyzed by Xray diffractometer.
出处
《清华大学学报（自然科学版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1998年第6期71-73,共3页
Journal of Tsinghua University(Science and Technology)
基金
冶金部腐蚀-腐蚀与表面技术开放实验室资助课题
北京师范大学射线束材料工程实验室资助课题
关键词
氧化
动力学
航空材料
铌
氧化膜
Nb
Nb oxidation
Rutherford backscattering
