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聚焦“膜”力——象“清泉”一样
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摘要
有机物和矿物质的沉淀以及锈蚀,会破坏反渗透设备里的薄膜,降低其工作效率。对临界参数如pH值/氧化还原电位值、导电率以及温度进行控制,可以防止铁鳞和水垢的生成,防止沉淀和积垢的形成,并可防止发生化学侵蚀。本文将介绍利用过程监控提高反渗透设备的效率。
作者
Christof Kundel
机构地区
Bürkert公司流体控制系统部门
出处
《流程工业》
2009年第11期12-14,共3页
关键词
薄膜
反渗透设备
聚焦
工作效率
氧化还原
临界参数
化学侵蚀
过程监控
分类号
X703 [环境科学与工程—环境工程]
O484.1 [理学—固体物理]
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