水热—溶剂热法合成CdS纳米晶的进展研究

半导体纳米材料CdS,具有较大的禁带宽度(2.42ev),因而在光电子器件等领域有重要的应用前景,也在当前纳米材料研究中占有重要的位置。同时,制备出形貌尺寸可控的CdS纳米材料是合成工艺研究的重要目标之一,而在制备CdS纳米材料的各种工艺中,水热-溶剂热法是一种重要的方法,受到研究者广泛的关注,并推动着水热-溶剂热合成方法的快速发展,促进了我国纳米科学技术的飞速发展。