Nemotek技术公司向SUSS订购多项光刻设备,用于图像传感器晶圆级封装
出处
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2009年第6期384-384,共1页
Micronanoelectronic Technology
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1SUSS光刻机实现大面积纳米压印光刻[J].电子工业专用设备,2008,37(10):77-77.
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2用于半导体器件探测和分析的混合信号互连方案[J].今日电子,2009(6):68-69.
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3SUSS MicroTec提高BlueRay^TM探测系统的性能[J].电子技术（上海）,2007,34(4):80-80.
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4陈裕权.RF MEMS的测试研究[J].半导体信息,2004,0(2):33-34.
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5SUSS MicroTec推出用于CMOS图像传感器的新型生产用晶圆键合机[J].电子工业专用设备,2008,37(9):68-68.
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6SUSS Micro Tec推出面向LED市场的专用光刻系统[J].电子工业专用设备,2010(6):66-67.
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7SUSS MicroTec公司进一步巩固其光刻设备在技术和市场上的领先地位[J].电子工业专用设备,2010(12):57-57.
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8国际新闻[J].半导体行业,2008(5):70-71.
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9SUSS:以己之长立足市场[J].集成电路应用,2008,25(1):19-19.
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10SUSS MicroTec晶片键合机在先进MEMS制造行业继续占有重要市场份额[J].半导体行业,2009(1):68-68.
