期刊文献+

S7-400 PLC和WinCC在硅片清洗设备中的应用

Application of S7-400 PLC and WinCC in the Clean Tools for waffers
下载PDF
导出
摘要 本文介绍了西门子S7-400 PLC和WinCC上位机系统在某硅片清洗设备中的应用,对其使用特点及网络结构进行了详尽的描述。 This paper introduces the application of Siemens S7-400 PLC and WinCC control software in the wafers cleaning machine, and it make a particular description for the characteristic of the use and the structure of the network.
作者 魏胜登
机构地区 深圳国际机场
出处 《可编程控制器与工厂自动化(PLC FA)》 2009年第6期110-111,96,共3页 Programmable controller & Factory Automation(PLC & FA)
关键词 WINCC S7-400 PLC 伺服控制 PROFIBUS 工业以太网 WinCC S7-400 PLC Sever control ProfiBus Industrial Ethernet
  • 相关文献

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部