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用导纳谱研究锗量子点的能级结构
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摘要
提出变偏压的导纳谱可用来研究量子点的能级结构以及其中载流子的库仑相互作用。对Ge/Si量子点结构进行了变偏压的导纳谱测试,探测到了5个空穴的填充过程,其中2个填入类s态的基态,束缚能约为432meV,3个填入类p态的第一激发态,束缚能约为338meV。Ge量子点获1个空穴所需要克服的库仑势能约为30meV。
作者
张胜坤
朱海军
蒋最敏
胡冬枝
徐阿妹
林峰
陆昉
机构地区
复旦大学表面物理国家重点实验室
出处
《自然科学进展(国家重点实验室通讯)》
1998年第4期496-501,共6页
基金
国家自然科学基金(批准号:69776010)
高等学校博士学科点专项科研基金
关键词
量子点
导纳谱
锗
能级结构
分类号
TN304.11 [电子电信—物理电子学]
O471.1 [理学—半导体物理]
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自然科学进展(国家重点实验室通讯)
1998年 第4期
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