光学光刻——向21世纪挺进被引量：2

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摘要光学光刻———向２１世纪挺进本刊编辑部当前的ＩＣ工业，正在沿着美国半导体工业协会（ＳＩＡ）制订的半导体技术发展蓝图并遵循摩尔定律向前发展。以存储器为代表的ＩＣ技术，已步入了０３５μｍ线宽的６４Ｍ器件批生产阶段；０２５μｍ线宽的２５６ＭＤＲＡＭ的制...

出处《电子工业专用设备》 1998年第2期1-5,共5页 Equipment for Electronic Products Manufacturing

关键词半导体器件光学光刻 IC 集成电路

同被引文献11

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电子工业专用设备

1998年第2期

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