抛光剂

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摘要抛光组合物及抛光工艺提供了一种特别适用于抛光含钨晶片的抛光组合物及采用该抛光组合物的抛光工艺。本发明抛光组合物含胶体二氧化硅、过氧化氢，较好的还含有磷酸或磷酸盐。抛光组合物的pH值是1～4，抛光组合物的铁离子浓度最多是0．02×10^-6.

出处《涂料技术与文摘》 2009年第6期57-57,共1页 Coatings Technology & Abstracts

关键词抛光剂胶体二氧化硅抛光工艺组合物铁离子浓度过氧化氢磷酸盐 PH值

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涂料技术与文摘

2009年第6期

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