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新型3米长光栅复制光刻机研制成功
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摘要
中国科学院光电技术所研制成功一种新型3米长光栅复制光刻机．这是该所继成功研发URE-2000系列大面积曝光机后．创新研发的义一款新型精密光刻设备。
出处
《军民两用技术与产品》
2009年第7期30-30,共1页
Dual Use Technologies & Products
关键词
光刻机
长光栅
复制
中国科学院
光刻设备
光电技术
曝光机
研发
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
TH741.6 [机械工程—光学工程]
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军民两用技术与产品
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