摘要
本文介绍了利用PLC实现的光刻机箱体内部温度控制系统的一个硬件设计方案。实验证明,本方案具有设计合理、性能稳定可靠、易于推广等特点。
This paper introduce a schedule about hardware design on temperature control system of photoeteching machine. It is based on PLC. And the experiment approves that it is reasonable and easy to be sale promotion.
出处
《仪器仪表用户》
2009年第4期69-70,共2页
Instrumentation
基金
安徽建筑工业学院校内青年基金
关键词
温度控制
光刻机
PLC
半导体加工
temperature control
photoeteching machine
PLC
semiconductor processing
