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瓷质玻化砖磨抛加工工艺研究
被引量:
8
Research on the Grinding and Polishing of Wollastonic
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摘要
通过详细观察不同磨削抛光条件下瓷质玻化砖的表面形貌和显微结构,分析磨抛过程中砂轮粒度、粒度间隔、磨抛时间、工作材质等因素对表面粗糙度和表面光泽度的影响,研究瓷质玻化砖磨削抛光加工工艺过程,并通过计算机模拟磨粒动态运动轨迹,提出优选砂轮组织和工艺参数的原则。
作者
袁慧
魏昕
王成勇
机构地区
广东工业大学
出处
《金刚石与磨料磨具工程》
CAS
1998年第4期23-27,共5页
Diamond & Abrasives Engineering
基金
广东省重点学科项目
关键词
瓷质玻化砖
磨削
抛光
陶瓷
建筑陶瓷
分类号
TQ174.1 [化学工程—陶瓷工业]
TQ174.76 [化学工程—陶瓷工业]
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1998年 第4期
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