等离子体去钻污与凹蚀技术在刚挠结合线路板中的应用

介绍了等离子体去钻污和凹蚀技术对刚挠结合印制线路板孔金属化的影响，与高锰酸钾、硫酸及没有去钻污的线路板孔金属化效果进行了对比，结果表明：等离子体去刚挠结合印制线路板钻污和凹蚀技术，能使孔金属化取得较好的效果。