ASML一体化光刻解决方案延续摩尔定律

ASML集团公司在美国旧金山举行的SEMICO NWest展会上发布多项全新光刻设备，让芯片制造商能够继续缩小半导体器件尺寸。FlexRay^TM（可编程照明技术）和BaseLiner^TM（反馈式调控机制）为ASML一体化光刻技术的一部分，具有高稳定性，能够优化和稳定制造工艺。