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印制板铜氨蚀刻液的研究 被引量:3

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摘要 介绍了新型铜氨蚀刻液,其配方简便、成本低、反应速度较快、废液处理容易。
作者 崔广华
机构地区 河北理工学院
出处 《新技术新工艺》 北大核心 1998年第4期38-38,共1页 New Technology & New Process
  • 相关文献

参考文献2

二级参考文献2

  • 1吴水清.印制板照相底版误差的校正[J]电子工艺技术,1987(07).
  • 2吴水清.蚀刻液稳定剂[J]电子工艺技术,1986(Z2).

共引文献4

同被引文献22

引证文献3

二级引证文献16

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