摘要
采用最新技术者往往是高利润获取者,最先采用最新工艺的晶圆厂就能掌控获得利润最高点。为此,KLA—Tencor日前推出两款新型晶圆缺陷监测系统2835和Puma9550、及一款新型电子束再检测系统eDR-5210,以应对客户在3Xnm/2Xnm技术节点上的量测需求。KLA—Tencor首席营销官Brian Trafas表示,“3Xnm/2Xnm节点会有多种多样的缺陷技术问题,不仅严重影响良率而且捕捉到这些缺陷难度很大。本次推出的新机台可为用户量产时带来性能和产能的大幅提升,帮助我们的客户更快的解决难题。”
出处
《集成电路应用》
2009年第9期17-17,共1页
Application of IC