CD-SEM如何与散射成像相互补充

自从散射成像技术开始应用于IC制造业后，就没有停止过与特征尺寸扫描电子显微镜（CD—SEM）之间的竞争，伴随着激烈的竞争，两项技术都不断地进行着改进（图1）。从半导体技术发展蓝图的角度来讲，这种竞争所产生的结果是正面的。现在，CD-SEM通过分析多条线，获取特征尺寸（CD）的信息；CD—SEM也正在朝着同时分析多条线的方向努力，而散射成像技术早已实现了这项功能。现在。