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紫外波段激光光刻用的VM型变焦距显微镜
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摘要
近年半导体器件的高集成化微细加工,对微米及亚微米的要求迅速发展,在显微镜下作业必须具备高分辨率和长工作距离的物镜,要求的波长不只局限在可见光,要向红外方向发展。
作者
吴秀丽
出处
《光机电信息》
1998年第8期26-30,共5页
OME Information
关键词
光刻
紫外波段
激光
变焦距
显微镜
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
TH742.9 [机械工程—光学工程]
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光机电信息
1998年 第8期
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