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超氧化物歧化酶对龋变牙面电位影响的临床实验研究
被引量:
3
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摘要
1990年,黄力子发现龋变牙面电位低于正常牙面电位[1,2]。1997年,王成龙等[3]证实龋变牙面的电位都低于正常牙面的电位;龋变牙面去除龋坏组织后,其电位即恢复到与正常牙面相近水平,不再出现明显的负电位,证明龋坏组织是产生负电位的组织学基础;还发...
作者
闫鹏
黄力子
王成龙
李刚
机构地区
第四军医大学口腔医学院口腔预防医学教研室
出处
《华西口腔医学杂志》
CAS
CSCD
北大核心
1998年第3期284-285,共2页
West China Journal of Stomatology
基金
国家自然科学基金
关键词
龋齿
龋变牙面
电位
超氧化物歧化酶
分类号
R781.1 [医药卫生—口腔医学]
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二级参考文献
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参考文献
5
共引文献
0
同被引文献
16
引证文献
3
二级引证文献
2
参考文献
5
1
王成龙,1997年
2
唐林,1996年
3
黄力子,中华口腔医学杂志,1993年,28卷,297页
4
黄力子,第二届龋病研究讨论会论文汇编,1990年,17页
5
莫简,医用自由基生物学导论,1989年,19页
同被引文献
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二级引证文献
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被引量:1
华西口腔医学杂志
1998年 第3期
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