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三维电子晶体制造新工艺问世
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摘要
日本京都大学大学院工学研究科的一个研究小组发布消息称,他们开发出一种能够大大缩短三维电子晶体制造时间的新工艺。三维电子晶体是一种能自由操纵光的新型材料,可用来高速处理光信号以及制造超小型光集成电路片,在下一代量子计算机的开发、新型人造卫星和飞机制造等方面有着广阔的应用前景。
出处
《电子元件与材料》
CAS
CSCD
北大核心
2009年第10期61-61,共1页
Electronic Components And Materials
关键词
制造新工艺
晶体
电子
三维
日本京都大学
光集成电路
量子计算机
新型材料
分类号
TN248 [电子电信—物理电子学]
TB383 [一般工业技术—材料科学与工程]
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电子元件与材料
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