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三维电子晶体制造新工艺问世

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摘要 日本京都大学大学院工学研究科的一个研究小组发布消息称,他们开发出一种能够大大缩短三维电子晶体制造时间的新工艺。三维电子晶体是一种能自由操纵光的新型材料,可用来高速处理光信号以及制造超小型光集成电路片,在下一代量子计算机的开发、新型人造卫星和飞机制造等方面有着广阔的应用前景。
出处 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2009年第10期61-61,共1页 Electronic Components And Materials
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