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金属缓蚀机理的量子化学研究现状与展望
被引量:
7
Quantum Chemical Study on Inhibitive Mechanism of Metal-The present and the future
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摘要
本文概述了金属缓蚀剂的电子结构与缓蚀性能的关系,以及缓蚀剂-金属界面体系的量子化学研究状况,并对这一领域的发展作了展望.
作者
颜肖慈
赵红
罗明道
机构地区
武汉大学化学系
出处
《自然杂志》
1998年第3期134-137,138,共5页
Chinese Journal of Nature
基金
国家自然科学基金资助课题
腐蚀与防护国家重点实验室项目
关键词
金属
缓蚀剂
缓蚀机理
量子化学
metal, inhibitor, inhibitive mechanism, quantum chem-istry
分类号
TG174.1 [金属学及工艺—金属表面处理]
TG174.42 [金属学及工艺—金属表面处理]
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