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单晶硅片的低温抛光技术 被引量:14

Cryogenic Polishing Technology of Monocrystalline Silicon Wafer
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摘要 介绍了一种光学材料抛光新技术——低温抛光技术。首先把抛光液冷冻成低温抛光模层,并对单晶硅片做抛光实验,实验结果表明这是一种很好的光学材料抛光方法。 This paper presents an optical polishing technology cryogenic polishing technology.The polishing liquid is frozen into polisher layer at low temperature at first and then polishing experiments on monocrystalline silicon are taken.It has been shown that this technology is a good new way to polish optical materials.
出处 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 1998年第5期104-109,共6页 Optics and Precision Engineering
基金 应用光学国家重点实验室基金
关键词 低温抛光 抛光模层 抛光液 单晶 硅片 Cryogenic polishing,Polisher layer,Polishing liquid
  • 相关文献

参考文献3

  • 1曹天宁,光学零件制造工艺学,1987年
  • 2李晋年,博士学位论文,1987年
  • 3舒泉声,低温技术与应用,1983年

同被引文献169

引证文献14

二级引证文献112

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