摘要
激光分子束外延是近几年才出现的一种新型高精密制膜技术,它集普通脉冲激光沉积(PLD)的特点和传统分子束外延(MBE)的超高真空精确控制原子尺度外延生长的原位实时监控为一体,不仅可以生长通常的半导体超晶格材料,尤其适于制备多元素、高熔点、复杂层状结构,如超导体、光学晶体、铁电体、压电体、铁磁体以及有机高分子材料等薄膜,同时还能进行其相应的激光与物质相互作用和成膜过程的物理、化学等方面的基础研究。因此,激光分子束外延具有重要的学术意义和广泛的应用前景。
出处
《中国科学基金》
CSCD
1998年第2期137-140,共4页
Bulletin of National Natural Science Foundation of China
基金
国家自然科学基金
关键词
激光分子束
外延设备
薄膜
超晶格
laser moleculer beam epitaxy, thin film and superlattice, in situ real-time control
