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电沉积金基镀层的性能

Properties of Gold Based Electrodeposit
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摘要 在镀金溶液中添加了锑、钴、铟3种离子,研究了电流密度、离子配比量对其沉积层的硬度及耐磨性的影响,讨论了各种离子对沉积层性能的作用机理.
出处 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 1998年第10期31-33,共3页 Materials Protection
  • 相关文献

参考文献4

  • 1Chzanowski W,J Appl Electrochem,1996年,26卷,385页
  • 2Li Y G,J Appl Electrodepos,1996年,26卷,853页
  • 3屠振密,电镀合金原理与工艺,1993年
  • 4覃奇贤,电镀原理与工艺,1993年

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