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光刻层中标记信号的传播行为分析
被引量:
5
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摘要
根据步进曝光机在不同工艺衬底上的对准情况,阐述工艺层对标记信号的影响。针对光线在光刻层中的传播行为,分析了几种标记信号的优劣。
作者
李毅杰
机构地区
电子工业部第四十五研究所
出处
《电子工业专用设备》
1998年第3期1-5,共5页
Equipment for Electronic Products Manufacturing
关键词
标记信号
衬底
光波导
干涉
光刻
分类号
TN252 [电子电信—物理电子学]
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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