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光刻层中标记信号的传播行为分析 被引量:5

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摘要 根据步进曝光机在不同工艺衬底上的对准情况,阐述工艺层对标记信号的影响。针对光线在光刻层中的传播行为,分析了几种标记信号的优劣。
作者 李毅杰
出处 《电子工业专用设备》 1998年第3期1-5,共5页 Equipment for Electronic Products Manufacturing
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