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离子投影光刻

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摘要 对于013μm以下几何作图,离子投影光刻是一种适用的技术。该技术没有光学衍射局限性和电子光刻接近效应,并能使几何图形缩减,进行动态畸变校正。欧州的研究计划正在寻求解决IPL方面的技术难题。
出处 《电子工业专用设备》 1998年第3期54-59,共6页 Equipment for Electronic Products Manufacturing
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