中芯国际将45纳米工艺技术延伸至40nm以及55nm

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摘要中芯国际集成电路制造有限公司日前宣布其45nm的互补型金属氧化物半导体（CMOS）技术将延伸至40nm以及55nm。这些新工艺技术进一步丰富了中芯国际现有的技术能力，更好地满足全球客户的需求，包括快速增长的中国市场在内。其应用产品包括多媒体产品、图形芯片、芯片组以及手机设备（如3G／4G手机）。

出处《电子工业专用设备》 2009年第10期65-65,共1页 Equipment for Electronic Products Manufacturing

关键词中芯国际集成电路制造有限公司技术能力纳米工艺互补型金属氧化物半导体多媒体产品手机设备新工艺技术中国市场

分类号 TP212 [自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置] F426.67 [经济管理—产业经济]

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