中芯国际工艺技术延伸至40纳米以及55纳米

下载PDF

导出

摘要中芯国际集成电路制造有限公司日前宣布其45纳米的互补型金属氧化物半导体（CMOS）技术将延伸至40纳米以及55纳米。这些新工艺技术进一步丰富了中芯国际现有的技术能力，更好地满足全球客户的需求，包括快速增长的中国市场在内。其应用产品包括多媒体产品、图形芯片、芯片组以及手机设备（如3G／4G手机）。

出处《中国集成电路》 2009年第11期8-8,共1页 China lntegrated Circuit

关键词中芯国际集成电路制造有限公司新工艺技术技术能力纳米互补型金属氧化物半导体多媒体产品手机设备中国市场

分类号 TP212 [自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置] F426.67 [经济管理—产业经济]

引文网络
相关文献

1中芯国际将45纳米工艺技术延伸至40nm以及55nm[J].电子工业专用设备,2009,38(10):65-65.
2中芯国际将45纳米工艺技术延伸至40及55纳米[J].信息通信,2009,22(6):4-4.
3中芯与灿芯40LL ARM Cortex-A9成功流片[J].电子工业专用设备,2012,41(3):59-60.
4中芯与灿芯40LLARMCortex—A9成功流片[J].电子与封装,2012,12(3):28-28.
510大半导体OEM厂商消费达910亿美元[J].世界电子元器件,2008(4):109-110.
6Microchip公司推出全新8位单片机系列PIC18F4XK20/2XK20[J].电子元器件应用,2007,9(12).
7Microchip推出全新8位单片机系列[J].电源技术应用,2007,10(10):9-9.
8瑞芯与中芯国际合作推动65纳米工艺高端芯片进入量产[J].集成电路应用,2010(12):46-46.
9中芯国际成立CVS3DIC中心[J].集成电路应用,2013(12):45-45.
10程开富.CMOS图像传感器的发展及应用[J].电子元器件应用,2002,4(3):31-36. 被引量：1

中国集成电路

2009年第11期

浏览历史

内容加载中请稍等...

中芯国际工艺技术延伸至40纳米以及55纳米

相关作者

相关机构

相关主题

浏览历史