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微弧氧化技术及其发展 被引量:39

Microarc Anodization Technique and Its Development
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摘要 主要介绍微弧氧化技术的工艺机理、微弧氧化膜的制备方法、影响制备的因素以及氧化膜的结构和性质,并指出了该项技术的优点和不足。 This article indroduces mainly the technological mechanism of microarc an- odization technique. the preparation melhod of microarc anodization film, faclors influencing the preparation film, factors influencing the preparation, and the structures and qualities of such film. The advantages and disadvantages are also pointed out.
出处 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第5期27-29,共3页 Materials Reports
关键词 微弧氧化 火花沉积 陶瓷膜 金属 氧化膜 涂层 microarc anodization, spark deposition, ceramic film
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