与金属兼容的离子注入光刻胶去除剂
摘要
本文介绍了一种全湿法，高活性的光刻胶去除溶剂，可以去除注入硬化的光刻胶，并具备对金属的兼容能力。
出处
《集成电路应用》
2009年第11期I0001-I0004,29,共5页
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