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澳大利亚研制纳米电子束曝光系统
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摘要
澳大利亚莫纳什大学的研究人员正在研制世界最强大的纳米设备之一——电子束曝光系统(EBL)。该系统可在纳米级的物体上进行书写或者蚀刻。
出处
《激光与光电子学进展》
CSCD
北大核心
2009年第11期10-10,共1页
Laser & Optoelectronics Progress
关键词
电子束曝光系统
澳大利亚
纳米设备
研究人员
纳米级
蚀刻
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
TN401 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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纳米电子束曝光系统[J]
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2
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6
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9
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10
章从福.
澳大利亚研制纳米电子束曝光系统是制作微小纳米电了元件的最佳设备[J]
.半导体信息,2009(5).
激光与光电子学进展
2009年 第11期
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