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磁控溅射Cr-Si薄膜的工艺研究 被引量:1

The Study Magnetic Sputter of Cr-Si Film Technology
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摘要 本文对微电子固体薄膜结构,以及影响薄膜电阻导电性和稳定性的因素进行了研究和分析。实验数据和电路应用实例表明:Cr-Si薄膜电阻是一种良好的材料,它具有高电阻率、低温度漂移系数、高稳定性、无寄生效应、高匹配精度等特性。 This paper study and analysis microelectronic solid film construction and factor that effect the film resistor conductivity and constantity. Test data and the sample of application circuit show:the Cr-Si film resistor is a good material,it have high resistivity, low temepreture drift factor, high constantivity, no parasitic effect,high mate accurate specific property.
出处 《微处理机》 1998年第4期15-17,共3页 Microprocessors
关键词 磁控溅射 薄膜 Cr-Si薄膜 半导体集成电路 magnetic sputter film resistor
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参考文献1

  • 1[日]金原粲 著,杨希光.薄膜的基本技术[M]科学出版社,1982.

同被引文献7

引证文献1

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