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表面活性剂四氢噻唑硫酮的整平作用机理研究 被引量：2

STUDY ON LEVELING MECHANISM OF TETRAHYDROTHIAZOLYL THIONE
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摘要 研究了酸性光亮镀铜添加剂四氢噻唑硫酮的电化学行为，提出了表面络合放电的整平作用机理． Electrochemical action of adding agents in acidic Cu plating bath is studied and a new leveling mechanism is put forward in this paper.
作者 李权
机构地区 四川师范大学化学系
出处 《四川师范大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 1998年第6期684-687,共4页 Journal of Sichuan Normal University（Natural Science）
关键词 四氢噻唑硫酮 电化学 整平作用 表面活性剂 镀铜 Tetrahydrothiazolylthione Electrochmistry Mechanism
分类号 TQ153.14 [化学工程—电化学工业] O647.2 [理学—物理化学]
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同被引文献21

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引证文献2

二级引证文献22

四川师范大学学报（自然科学版）
1998年 第6期

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