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摘要美国佛罗里达大学（FIU）订购OAI纳米印刷光刻组件（NIL）背面掩模对准器用于半导体、MEMS、微流体和纳米行业的UV曝光设备领衔制造商OAI宣布，美国佛罗里达大学（FIU）已决定采用该公司生产的配置OAI纳米印刷光刻组件（NIL）的M800正面和背面掩模对准器。该纳米印刷光刻组件研发于HP晶圆厂，

出处《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2009年第12期771-772,共2页 Micronanoelectronic Technology

关键词纳米印刷光刻佛罗里达大学产品 OAI MEMS 曝光设备 M800 组件

分类号 TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学] G649.712 [文化科学—高等教育学]

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