“冻电镜三维分子成像国际研讨会”征文

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摘要冻电镜三维分子成像国际研讨会将于2010年8月8-12日在北京举行。会议现面向相关科技工怍者征文，征文范围如下：

出处《科技导报》 CAS CSCD 北大核心 2009年第23期61-61,共1页 Science & Technology Review

关键词国际研讨会征文范围分子成像三维电镜

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2009年第23期

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