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第9届全国光电技术学术交流会明年5月召开
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摘要
由中国宇航学会光电技术专业委员会主办的第9届全国光电技术学术交流会将于2010年5月20日在北京召开。会议议题包括:光电子器件技术;新型激光器技术;激光3D成像探测技术;红外成像技术及应用;模式识别与智能控制;图像特征提取与目标识别技术;光学薄膜技术;超分辨成像及焦深延拓技术;纳米微结构与光子晶体等。
出处
《中国印刷与包装研究》
CAS
2009年第6期75-75,共1页
China Printing Materials Market
关键词
光电技术
学术交流会
红外成像技术
专业委员会
光电子器件
会议议题
智能控制
模式识别
分类号
TN2 [电子电信—物理电子学]
TN215 [电子电信—物理电子学]
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中国印刷与包装研究
2009年 第6期
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