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硅基GaN外延层微结构的HREM研究

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摘要 由于GaN薄膜在光电子学方面具有潜在的巨大应用前景,目前国际上对其进行了广泛的研究,但这些应用的实现有赖于生长出高质量的GaN单晶薄膜,以便有目的地掺杂n-型和p-型。迄今为止,GaN生长的极大部分工作为异质外延于蓝宝石(α-Al2O3)衬底上,而将...
出处 《电子显微学报》 CAS CSCD 1998年第5期539-540,共2页 Journal of Chinese Electron Microscopy Society
基金 南京大学固体微结构国家实验室开放课题 攀登计划
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