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CVD法制备高纯钛形核过程动力学分析

The analysis of CVD process for high purity titanium
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摘要 实验用了化学气相沉积(CVD)法制备高纯钛,对高纯钛制备中的形核过程进行了热力学和动力学分析,实验得出:沉积区温度应控制在1350K^1450K。 Experiments using chemical vapor deposition(CVD) preparation of high pure titanium,preparation of high pure titanium nucleation process of thermodynamic and kinetic analysis were made.Experiment results: deposition zone temperature should be controlled at 1350K~1450K.
出处 《轻金属》 CSCD 北大核心 2010年第2期55-58,共4页 Light Metals
关键词 CVD 高纯钛 动力学 CVD high purity titanium dynamics
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参考文献16

二级参考文献21

  • 1刘荣军,张长瑞,周新贵,曹英斌.化学气相沉积SiC涂层生长过程分析[J].无机材料学报,2005,20(2):425-429. 被引量:9
  • 2高晓军,钛工业进展,1995年,4卷,19页
  • 3吴全兴,钛工业进展,1995年,4卷,20页
  • 4马文源,稀有金属,1994年,18卷,1期,59页
  • 5李伯骥,化学化工实验师手册,1996年,155页
  • 6杨邦朝,薄膜物理与技术,1994年
  • 7刘光诒(译),薄膜加工工艺,1987年,262页
  • 8叶瑞伦,无机材料物理化学,1986年,139页
  • 9顾惕人(译),表面的物理化学.下,1985年,385页
  • 10董万堂(译),无机固态反应,1985年,219页

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