电子器件的金刚石基衬底

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摘要本发明涉及一种用于制造半导体层或器件的衬底的制造方法，包括下述步骤：提供包括适合作用于CVD金刚石合成的衬底的至少一个第一表面的硅晶片；在所述硅晶片的第一表面上生长具有预定厚度并具有生长面的CVD金刚石层；将硅晶片的厚度减少至预定水平；以及在所述硅晶片上提供第二表面，

出处《工业金刚石》 2009年第3期37-38,共2页

关键词金刚石合成电子器件衬底制造方法硅晶片半导体层金刚石层 CVD

1纳米金刚石合成石墨烯技术成功[J].磨料磨具通讯,2016,0(12):34-34.
2发紫外光的金刚石基发光二极管[J].光机电信息,2002(11):47-48.
3HE XiaoWei ZHANG MinXuan LI JinWen.Characteristics of on-chip dipole antenna using diamond for intra-chip wireless interconnect[J].Science China(Technological Sciences),2011,54(4):1035-1043.
4罗湘捷,丁立业,刘强,叶俐,罗伯诚.高温高压下B_4C合成金刚石的研究[J].高压物理学报,1997,11(4):266-269. 被引量：11
5杨晓朋,宋平新,王新昌,姚宁,张兵临.金刚石基压电薄膜研究进展[J].材料导报（纳米与新材料专辑）,2008,22(2):301-304. 被引量：1
6刘东红,闫翠霞,俞琳,胡连军,龙闰,戴瑛.硼/氢掺杂金刚石薄膜导电特性研究[J].半导体技术,2006,31(7):495-497. 被引量：2
7Noda,H,海韵.用低压,射频,感应耦合等离子体合成金刚石[J].国外核聚变与等离子体应用,1999(5):74-78.
8CN200510107220．5金刚石合成块料提纯方法[J].磨料磨具通讯,2008(5):38-38.
9Element Six Ltd供应CVD金刚石应用新型固态激光器[J].磨料磨具通讯,2009(2):32-32.
10刘荣贵.借助Sumitomo公司的技术Epson转向SAW开发[J].压电与声光,2005,27(2):130-130.

工业金刚石

2009年第3期

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