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二次离子质谱在HL—1M聚变装置中的应用
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摘要
将LAS-2000二次离子质谱仪改成研究第一壁材料及其涂层,新材料性能的重要实验设备。在HL-1M装置设计,安装和物理实验过程中,我们用该设备对HL-1M装置真空室用AISI304L不锈钢,第一壁用SMF-800石墨材料及HL-1M装置原位硼化,硅化涂层和SiC等涂层材料的真空热解释性能,吸氧性能和化学溅射性能以进行了实验研究,并对装置主轴气扁管内壁的清洁度进行了监测。实验证明了原位硼化。
作者
王明旭
张年满
机构地区
核工业西南物理研究院
出处
《四川真空》
1998年第2期17-20,共4页
关键词
二次离子质谱
第一壁材料
托卡马克装置
分类号
TL631.24 [核科学技术—核技术及应用]
TL621 [核科学技术—核技术及应用]
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四川真空
1998年 第2期
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