制程前进之路在何方？最新晶体管制造工艺技术前瞻被引量：1

下载PDF

导出

摘要 CPU制程？在硬件领域．这个词历来就非常敏感。CPU制程技术的每一次更新都会引起大家关注．现在的晶体管结构所带来的技术瓶颈已经越来越明显．新的技术革新必须跟上。在2009年．Intel和IBM这两大制程技术领导者都在不同的场合对CPU制程技术进行了公开展示．

作者 HJCBUG

出处《微型计算机》 2010年第7期121-126,共6页 MicroComputer

关键词制造工艺技术制程技术晶体管 INTEL CPU 技术革新管结构领导者

同被引文献6

1Tsu-JaeKing,"FinFETs for Nanoscale CMOS Digital Integrated Circuits",International Conference on Computer Aided Design (ICCAD'05), pp.207-210,2005.
2张潇.“新型结构f1nFET及其在SRAM电路的应用”.http://wenku.baidu.com.
3Huiming Bu "FinFET Technology A Substrate Perspective", SOl conference,Tempe,Arizona,201 1,978-1 -61284-760-3/11,2011 IEEE.
4Xiaoyan.Xu,"High Performance BOI FinFETs Based on Bulk- silicon Substrate," IEEE Transactions on Electronic Devices, DOI:10.1109/TED,2008.2004646.
5Chaohsin Chien,"Introduction of core of Integrated Circuit --Transistor' s Evolution upon the Scaling",Speech in Jiao Tong University,2012.8.
6Xiao Deyuan,'~Simulation of gate-all-around cylindrical tran- sistors for sub-lO nanometer scaling",JOURNAL OF SEMICONDUCTORS,Volume 29,No.3,2008.3.

微型计算机

2010年第7期

内容加载中请稍等...