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TSMC取得艾司摩尔超紫外光微影设备以研发新世代工艺
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摘要
TSMC与荷兰艾司摩尔（ASML）公司于2月22日共同宣布，TSMC将取得ASML公司TWINSCANTMNXE：3100一超紫外光（Extreme Ultra—Violet，EUV）微影设备，是全球六个取得这项设备的客户伙伴之一。
机构地区
本刊通讯员
出处
《电子与封装》
2010年第3期46-46,共1页
Electronics & Packaging
关键词
TSMC
紫外光
设备
摩尔
工艺
世代
研发
ASML公司
分类号
TN402 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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电子与封装
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