TSMC取得ASML超紫外光微影设备以研发新世代工艺

TSMC与ASML公司共同宣布，TSMC将取得ASML公司TWINSCANNXE：3100-超紫外光（Extreme Ultra—violet，EUV）微影设备，是全球六个取得这项设备的客户伙伴之一。这项设备将安装于TSMC的超大晶圆厂（GigaFab）-台积十二厂，用以发展新世代的工艺技术。TSMC也将成为全球第一个可以在自身晶圆厂发展超紫外光微影技术的专业集成电路制造服务业者。