KLA—Tencor推出PROLITH（TM）X3．1光刻模拟软件

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摘要 KLA—Tencor公司推出了他们最新一代的PROLITH光刻模拟软件。PROLITHX3．1让处于前沿领先地位的芯片厂商、研发机构及设备制造商能够迅速日一极具成本效益地解决EUV和两次图像合成光刻（DPL）制程中的挑战性问题，包括线边粗糙度（LER）和图形成像问题。使用PROLITHX3．1光刻软件能够简化他们的研发，节约宝贵的光刻单元资源，并加快产品开发。

出处《中国集成电路》 2010年第3期7-7,共1页 China lntegrated Circuit

关键词模拟软件 KLA 光刻研发机构设备制造商芯片厂商图像合成成本效益

分类号 TN873.93 [电子电信—信息与通信工程]

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