MIT用“干涉”光刻步骤制成36nm线

MIT（麻省理工学院）的一个研究组用干涉图形和光致变色材料制出36nm线宽，并称这一技术可以延伸到分子尺度图形化。这一研究结果发表在2009年4月第10期“科学”杂志上。它是基于“吸收调制”，涉及干涉图形化，用不同波长的光去相互增强或相互抵消。