硫脲对铜阴极电沉积表面光滑度的影响

利用电位阶跃法研究了硫脲对阴极铜电沉积的电化学成核过程的影响，利用暂态电流量最大值计算成核数密度，并同时较好地区分瞬间成核和持续成核过程，使理论计算值与经验值较好地吻合，得到铜电解精炼中硫脲作为单一添加剂时的最佳浓度，并利用扫描电镜对实际电解样品进行了测试。