摘要
在平行板反应离子刻蚀系统的圆筒形腔体的侧壁上绕上电流线圈后,系统中的磁场强度和均匀性都可进行调节。本文根据螺线管线圈内部磁场的分布规律,通过数值计算的方法在该系统中获得均匀的磁场。
In the parallel-plate reaction ion etching system, both the homogeneity and intensity of magnetic field can be readjusted with the current coil wound around the wall of cylindrical cavity. Based on the distribution of magnetic field within solenoid, a homogeneous magnetic field in the system is obtained via numerical computation.
出处
《真空》
CAS
北大核心
2010年第2期34-36,共3页
Vacuum
基金
贵州民族学院2009年度科研基金资助项目
关键词
反应离子刻蚀
磁场
数值解及分析
reaction ion etching（RIE）, magnetic field
numerical computation
