摘要
钴基合金在锅炉制造业中应用广泛,尤其在制造阀门的堆焊材料中最为常见.用ICP-AES法测定钴基合金中的硅时发现,在硅251.611nm处,钴对硅的光谱干扰小,而在硅252.851nm处,钴对硅的测定有很强的光谱干扰,本文描绘了干扰线轮廓图.1 试剂与仪器试验所用试剂均为分析纯,王水按HCl:HNO<sub>3</sub>=3:1比例配成.水为蒸馏水.JY38S
出处
《理化检验（化学分册）》
CAS
CSCD
北大核心
1998年第12期560-560,共1页
Physical Testing and Chemical Analysis(Part B:Chemical Analysis)
