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亚微米电子束曝光机自动输片系统结构与精度分析 被引量:1

Constitution and Accuracy Analysis of Automatic Wafer Transporting System for Sub Micron E Beam Exposure Machine
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摘要 着重描述了自动输片系统完成的各项功能,并详细介绍机械手的设计功能及精度分析。 Various functions performed by the automatic wafer transporting system are described in particular in the paper.The designed functions and accuracy analysis of the manipulator are introduced in detail.
作者 王继红
出处 《光电工程》 CAS CSCD 1998年第3期49-51,55,共4页 Opto-Electronic Engineering
基金 "八五"攻关项目
关键词 电子束曝光机 输片机构 机械手 精度分析 Electron beam exposure devices,Wafer Transport mechanisms,Manipulators,Accuracy analysis.
  • 相关文献

参考文献2

  • 1王静汉,光电工程,1989年,16卷,1期,1页
  • 2王大明,精密机械零件与电子机械部件,1985年

同被引文献2

  • 1王静汉 杨碧君 等.可变矩形电子束曝光机激光定位工作台系统研制[J].光电工程,1987,14(6):20-24.
  • 2王静汉 罗正全.电子束曝光机自动输片系统研制[J].微细加工技术,1989,(1):1-8.

引证文献1

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