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IC工艺诱生有机沾污的表面质谱研究
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摘要
铝键合点的表面沾污增加了对装饰品合金化表面的腐蚀,并可能导致微芯片的失效。过去大量的研究工作多集中在键合点上由等离子工艺引起的含氟无机沾污,而很少涉及到键合点上的有机沾污,TOF-SIMS提供了一个探讨和分析微芯片链合点上有机沾污的有力手段。
作者
李越生
郑国祥
机构地区
复旦大学材料科学系
出处
《真空科学与技术》
CSCD
北大核心
1998年第A12期92-96,共5页
Vacuum Science and Technology
关键词
二次离子质谱
失效分析
有机沾污
集成电路
分类号
TN407 [电子电信—微电子学与固体电子学]
O657.99 [理学—分析化学]
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真空科学与技术
1998年 第A12期
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