晶体倒空间中的迹线分析

提出适用于知种晶系晶体倒空间中迹线的分析原理，并由导出的计算公式，从电子衍射花样上的漫散射条纹或（和）伴点，可简便确定晶体中所存在的面缺陷。应用此迹线分析原理，分析讨论了奥氏体（１１１）面上可能形成ＶＣ膜，标注和确定了Ｌａｖｅｓ相中的层错面和（Ｆｅ，Ｃｒ）７Ｃ３中的缺陷面。